半導體製程依據摩爾定律之預測已經成熟發展約40年，元件尺寸從微米級元件到目前的奈米級元件，應用範圍更含括邏輯元件、記憶體元件、微機電元件、嵌入式元件以及目前之生醫元件等等。而先進的奈米製程技術以及先進機台為背後的主要推手。
此課程主要分為包括先進奈米元件介紹以及製程應用、半導體製程設備機台介紹、建測技術以及實務參訪。可學習到各製程步驟與製程設備的主要技術原理及重要的基礎觀念。有助學生日後投入半導體、光電或其他相關奈米元件等相關產業。
本課程將與國家奈米元件實驗室奈米元件廠（ NDL）廠長何家驊博士與實務工程師合開。授課內容兼具基礎原理與實務知識。目前本課程也正在進行 NDL課程認證，作為未來學生參與NDL工作的先修課程。
(1) 先進b導體元件介紹以及製程應用：可學習到目前各個半導體元件之原理、架構、以及所需的半導體製程。
(2) 半導體製程設備機台介紹：可學習到各製程步驟與製程設備的主要技術原理及重要的基礎觀念
A. 簡介
B. 微影技術
C. 乾式蝕刻
D. 濕式清潔
E. 氧化擴散
F. 離子佈值
G. PVD製程
H. CVD製程
I. CMP製程
J. 雷射製程
K. 濕式清潔
L. 廠務系統
M. 真空系統
N. 量測技術
(3) 實務參訪：安排參訪國家奈米元件實驗室的新竹元件廠，實地參觀半導體元件之製作。
參考資料與評分方式將於第一次上課公告。